Investigadores han desarrollado un método escalable y rentable para fabricar rejillas de absorción de rayos X mediante un proceso de pulverización de película delgada. Este avance es crucial para el desarrollo de nuevas técnicas de imagen de rayos X, como la imagen de contraste de fase y la imagen de dispersión oscura, que ofrecen una sensibilidad mejorada y la capacidad de visualizar estructuras que son invisibles con los métodos convencionales de imagen de absorción. La fabricación de estas rejillas, que son componentes clave en los sistemas de imagen de rayos X basados en rejillas, ha sido tradicionalmente un desafío debido a la necesidad de estructuras de alto aspecto con materiales de alto número atómico y la complejidad de los procesos de microfabricación.

El nuevo método utiliza la pulverización de película delgada para depositar un material de alto número atómico (como el bismuto) en patrones precisos sobre un sustrato. Este enfoque permite la creación de rejillas con las dimensiones y la calidad requeridas para aplicaciones de rayos X, superando las limitaciones de los métodos actuales que a menudo implican técnicas de litografía complejas y costosas. La capacidad de producir estas rejillas de manera más eficiente y a menor coste podría acelerar la adopción de estas avanzadas técnicas de imagen en una variedad de campos, desde la medicina hasta la ciencia de materiales y la seguridad.

La técnica de pulverización ofrece ventajas significativas en términos de escalabilidad, permitiendo la fabricación de rejillas de gran área necesarias para aplicaciones prácticas. Además, la flexibilidad del proceso permite la optimización de las propiedades de la rejilla para diferentes energías de rayos X y requisitos de imagen. Este desarrollo representa un paso importante hacia la democratización de las tecnologías de imagen de rayos X de próxima generación, haciendo que sean más accesibles para la investigación y las aplicaciones clínicas y comerciales.